某实验室多靶材电子束镀膜机采购项目单一来源采购公示
日期:2024-11-25
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一、项目信息采购人:某实验室项目名称:某实验室多靶材电子束镀膜机采购项目拟采购的货物或服务的说明:一套多靶材电子束镀膜机拟采购的货物或服务的预算金额:********.00人民币采用单一来源采购方式的原因及说明: 课题为了实现多种金属薄膜的蒸镀,同时可支持多片镀膜,根据项目需求,需要购置一台多靶材电子束镀膜机设备,专门用于Ti、Au、Pd、GeAu、BeAu等金属薄膜的蒸镀。要求1)高真空镀膜腔体极限真空可达到9e-8Torr、2)样品盘支持4片8英寸基片或6片4英寸同时镀膜;样品盘转速0-20RPM可调;3)镀膜均匀性:直径100mm条件下,批内、批间膜厚均匀性≤±3%;直径50mm条件下,片内批内与批间膜厚均匀性≤±1%。货期预计3~5个月。该设备是硅基量子点芯片制备时的基础微纳加工设备,能实现Ti/Au/Pd/GeAu等多种靶材的高均匀性的多片同时蒸镀,可以减小蒸镀时的差异性与靶材消耗。受欧美等国家的禁运影响,同类型的进口高性能产品已无法购买到,国内供应商无锡芯谱半导****公司是唯一能生产、供****公司,他们的产品型号是VATECH50,该型号设备也是唯一能满足实验室多种靶材与多片同时高均匀性蒸镀需求的设备,因此采用单一来源方式采购。二、拟定供应商信息名称:无锡芯谱半导****公司地址###市新###路 566 号联东 U 谷云智科技园 20-101
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