方式，现邀请合格投标人参加投标。1、招标条件项目概况:设备名称：低温TEOS；数量：1台；设备原理及用途：PECVD是腔室在低压高温条件下，通入反应气体，形成等离子体，进行化学反应，在硅片表面淀积薄膜。PECVD主要用于产品中二氧化硅、氮化硅的制备。低温TEOS（170℃）机台主要用于麦克风产品的牺牲层，低温主要是为了...

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